一种PMMA作为基质的稀土红光薄膜的制备方法

专利号: ZL2014103164234

专利类型: 国家发明专利

所在单位: 材料科学与工程学院

项目负责人: 杨朝龙

申请日期: 2014/7/4 0:00:00

授权公告日期: 2016/3/9 0:00:00

证书号: 1982846

公告号: CN104045954B

学科: 工学

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说明介绍

本发明提供一种PMMA作为基质的稀土红光薄膜的制备方法，以稀土配合物Eu(TTA)2Tpy-OCH3作为发光分子，将该稀土铕配合物掺杂到PMMA基质中，通过溶剂蒸发方法得到薄膜产品；其中，PMMA和稀土配合物的重量之比为100：（1～10）。由于高分子基质对稀土发光的能量有传递作用，所以本发明制得的薄膜发光性能好，透明性能好。本发明主要用于电脑、电视、手机等电子终端，作为平板显示领域的发光材料。同比其他方法，本方法制备成本低，方法简单易操作。具有很广泛的应用前景。